Otto, Oberdan W.: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (16)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

Surface acoustic wave filter

Otto, Oberdan W.

Журнал:

The Journal of the Acoustical Society of America

Рік:

1980

Мова:

english

Файл:

PDF, 136 KB

english, 1980

2

SPIE Proceedings [SPIE 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - Redwood City, CA (Wednesday 18 September 1996)] 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - Advances in process matching for rules-based optical proximity correction

Otto, Oberdan W., Henderson, Richard C., Shelden, Gilbert V., Reynolds, James A.

Рік:

1996

Мова:

english

Файл:

PDF, 438 KB

english, 1996

3

Scattering of Rayleigh waves from topographic irregularities at oblique incidence

Otto, Oberdan W.

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

1977

Мова:

english

Файл:

PDF, 567 KB

english, 1977

4

Theory for nonlinear coupling between a piezoelectric surface and an adjacent semiconductor

Otto, Oberdan William

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

1974

Мова:

english

Файл:

PDF, 998 KB

english, 1974

5

SPIE Proceedings [SPIE 1986 Microlithography Conferences - Santa Clara (Monday 10 March 1986)] Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Technology for Submicrometer Lithographies V - Aeble-150 E-Beam/Optical Hybrid Lithography

Barnett, Kenneth A., Metzger, Robert A., Otto, Oberdan W., Blais, Phillip D.

Рік:

1986

Мова:

english

Файл:

PDF, 8.46 MB

english, 1986

6

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1994 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 27 February 1994)] Optical/Laser Microlithography VII - Correcting for proximity effect widens process latitude

Henderson, Richard C., Otto, Oberdan W., Brunner, Timothy A.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 371 KB

english, 1994

7

SPIE Proceedings [SPIE 14th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - Santa Clara, CA (Wednesday 14 September 1994)] 14th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - CD data requirements for proximity effect corrections

Henderson, Richard C., Otto, Oberdan W., Brodsky, William L., Shelden, Gilbert V.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 512 KB

english, 1994

8

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 22 February 2009)] Design for Manufacturability through Design-Process Integration III - Directional 2D functions as models for fast layout pattern transfer verification

Singh, Vivek K., Torres, J. Andres, Hofmann, Mark, Rieger, Michael L., Otto, Oberdan

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 235 KB

english, 2009

9

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1994 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 27 February 1994)] Optical/Laser Microlithography VII - Automated optical proximity correction: a rules-based approach

Otto, Oberdan W., Garofalo, Joseph G., Low, K. K., Yuan, Chi-Min, Henderson, Richard C., Pierrat, Christophe, Kostelak, Robert L., Vaidya, Sheila, Vasudev, P. K., Brunner, Timothy A.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.13 MB

english, 1994

10

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Optical/Laser Microlithography VIII - Feature biasing versus feature-assisted lithography: a comparison of proximity correction methods for 0.5*(lambda/NA) lithography

Pforr, Rainer, Ronse, Kurt G., Van den Hove, Luc, Yen, Anthony, Palmer, Shane R., Fuller, Gene E., Otto, Oberdan W., Brunner, Timothy A.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 844 KB

english, 1995

11

SPIE Proceedings [SPIE 15th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management '95 - Santa Clara, CA (Wednesday 20 September 1995)] 15th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management - Simplified rule generation for automated rules-based optical enhancement

Otto, Oberdan W., Garofalo, Joseph G., Henderson, Richard C., Shelden, Gilbert V., Wiley, James N.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 708 KB

english, 1995

12

SPIE Proceedings [SPIE Optical Science and Technology, the SPIE 49th Annual Meeting - Denver, CO (Monday 2 August 2004)] Advanced Wavefront Control: Methods, Devices, and Applications II - Design and manufacture of a large-aperture wavefront sensor

Hutchin, Richard A., Gonglewski, John D., Gruneisen, Mark T., Otto, Oberdan W., Wertheimer, Alan, Giles, Michael K.

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 793 KB

english, 2004

13

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Photomask Technology - Monterey, CA (Monday 14 September 2009)] Photomask Technology 2009 - Challenges for the 28nm half node: Is the optical shrink dead?

Torres, J. Andres, Zurbrick, Larry S., Montgomery, M. Warren, Otto, Oberdan, Pikus, Fedor G.

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.82 MB

english, 2009

14

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1994 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 27 February 1994)] Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV - Rule-based approach to e-beam and process-induced proximity effect correction for phase-shifting mask fabrication

Pierrat, Christophe, Garofalo, Joseph G., DeMarco, John, Vaidya, Sheila, Otto, Oberdan W., Patterson, David O.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 685 KB

english, 1994

15

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Optical/Laser Microlithography VIII - Automated layout of mask assist-features for realizing 0.5 k1 ASIC lithography

Garofalo, Joseph G., Otto, Oberdan W., Cirelli, Raymond A., Kostelak, Robert L., Vaidya, Sheila, Brunner, Timothy A.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 728 KB

english, 1995

16

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Optical/Laser Microlithography VIII - Integrating proximity effect corrections with photomask data preparation

Otto, Oberdan W., Henderson, Richard C., Brunner, Timothy A.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 444 KB

english, 1995