Mechanism of copper underpotential deposition at Pt(hkl)-electrodes: Quantum-chemical modelling
A. I. Danilov, R. R. Nazmutdinov, T. T. Zinkicheva, E. B. Molodkina, A. V. Rudnev, Yu. M. Polukarov, J. M. FeliuТом:
44
Мова:
english
Сторінки:
12
DOI:
10.1134/s1023193508060104
Date:
June, 2008
Файл:
PDF, 1.38 MB
english, 2008
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
