Controllable chemical vapor deposition of large area uniform nanocrystalline graphene directly on silicon dioxide
Sun, Jie, Lindvall, Niclas, Cole, Matthew T., Wang, Teng, Booth, Tim J., Bøggild, Peter, Teo, Kenneth B. K., Liu, Johan, Yurgens, AugustТом:
111
Рік:
2012
Мова:
english
DOI:
10.1063/1.3686135
Файл:
PDF, 2.81 MB
english, 2012
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
