Effect of annealing and chemical composition on the giant magnetoresistance of electron beam deposited CoxCu(100−x) (11⩽x⩽45) granular films
A.N Pohorilyi, A.F Kravetz, E.V Shipil, A.Ya Vovk, Chang Sik Kim, H.R KhanТом:
186
Рік:
1998
Мова:
english
Сторінки:
10
DOI:
10.1016/s0304-8853(98)00050-x
Файл:
PDF, 453 KB
english, 1998