Self-written waveguide structure in photosensitive polyimide resin fabricated by exposure and thermosetting process
K. Yamashita, T. Hashimoto, K. Oe, K. Mune, R. Naitou, A. MochizukiТом:
16
Рік:
2004
Мова:
english
DOI:
10.1109/lpt.2004.823752
Файл:
PDF, 100 KB
english, 2004