Hydrogen diffusion in silicon from plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon nitride film at high temperature
Sheoran, Manav, Kim, Dong Seop, Rohatgi, Ajeet, Dekkers, H. F. W., Beaucarne, G., Young, Matthew, Asher, SallyТом:
92
Рік:
2008
Мова:
english
Журнал:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.2917467
Файл:
PDF, 606 KB
english, 2008
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
