SPIE Proceedings [SPIE Photomask Technology - Monterey, CA (Monday 13 September 2004)] 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology - Contact and via hole mask design optimization for 65-nm technology node
Van Den Broeke, Douglas, Shi, Xuelong, Socha, Robert, Laidig, Tom, Hollerbach, Uwe, Wampler, Kurt E., Hsu, Stephen, Chen, J. Fung, Corcoran, Noel P., Dusa, Mircea V., Park, Jung Chul, Staud, Wolfgang,Том:
5567
Рік:
2004
Мова:
english
DOI:
10.1117/12.568692
Файл:
PDF, 1.83 MB
english, 2004
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
