The incorporation of oxygen during the reactive deposition of NiCrO resistive films
D. Hintner, R. Mattheis, G. VoglerТом:
182
Рік:
1989
Мова:
english
Сторінки:
10
DOI:
10.1016/0040-6090(89)90259-9
Файл:
PDF, 563 KB
english, 1989