Properties of hydrogenated amorphous silicon carbide films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Dan Kuhman, Steve Grammatica, Frank JansenТом:
177
Рік:
1989
Мова:
english
Сторінки:
10
DOI:
10.1016/0040-6090(89)90573-7
Файл:
PDF, 416 KB
english, 1989