Oxynytride layers obtained by anodic oxidation of plasma-enhanced chemically vapour deposited Si3N4 films
I. Montero, O. Sa´nchez, J.M. Albella, J.C. PivinТом:
175
Рік:
1989
Мова:
english
Сторінки:
5
DOI:
10.1016/0040-6090(89)90807-9
Файл:
PDF, 265 KB
english, 1989