Influence of process parameters on diamond film CVD in a surface-wave driven microwave plasma reactor
Carlos F.M. Borges, Louis St-Onge, Michel Moisan, Alix GicquelТом:
274
Рік:
1996
Мова:
english
Сторінки:
15
DOI:
10.1016/0040-6090(95)06967-4
Файл:
PDF, 1.70 MB
english, 1996
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
