Thermal and mechanical analysis of photoresist and silylated photoresist films: Application to AZ 5214™
E. Gogolides, E. Tegou, K. Beltsios, K. Papadokostaki, M. HatzakisТом:
30
Рік:
1996
Мова:
english
Сторінки:
4
DOI:
10.1016/0167-9317(95)00242-1
Файл:
PDF, 292 KB
english, 1996
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
