HAXPES study of CeOx thin film–silicon oxide interface
Vorokhta, M., Matolínová, I., Dubau, M., Haviar, S., Khalakhan, I., Ševčíková, K., Mori, T., Yoshikawa, H., Matolín, V.Том:
303
Мова:
english
Журнал:
Applied Surface Science
DOI:
10.1016/j.apsusc.2014.02.048
Date:
June, 2014
Файл:
PDF, 1.87 MB
english, 2014
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
