In Situ Ellipsometry Analysis on Formation Process of Al[sub 2]O[sub 3]-Ta[sub 2]O[sub 5] Films in Ion Beam Sputter Deposition
Kaneko, Tetsuji, Akao, Noboru, Hara, Nobuyoshi, Sugimoto, KatsuhisaТом:
152
Рік:
2005
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1861173
Файл:
PDF, 262 KB
english, 2005