Parametric Study of NiFe and NiFeCo High Density Plasma Etching Using CO/NH[sub 3]
Jung, K. B.Том:
146
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1391907
Date:
June, 1999
Файл:
PDF, 601 KB
english, 1999