Nitric acid oxidation of Si (NAOS) method for low temperature fabrication of SiO2/Si and SiO2/SiC structures
H. Kobayashi, K. Imamura, W.-B. Kim, S.-S. Im, AsuhaТом:
256
Рік:
2010
Мова:
english
Сторінки:
13
DOI:
10.1016/j.apsusc.2010.03.092
Файл:
PDF, 2.52 MB
english, 2010