Novel anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding PAG bound polymers for sub-50 nm EUV lithography
Wang, Mingxing, Gonsalves, Kenneth E., Rabinovich, Monica, Yueh, Wang, Roberts, Jeanette M.Том:
17
Рік:
2007
Мова:
english
Журнал:
Journal of Materials Chemistry
DOI:
10.1039/b617133h
Файл:
PDF, 538 KB
english, 2007