Effective mobility in FinFET structures with HfO2 and SiON...

Effective mobility in FinFET structures with HfO2 and SiON gate dielectrics and TaN gate electrode

T. Rudenko, N. Collaert, S. De Gendt, V. Kilchytska, M. Jurczak, D. Flandre

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

2005

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/j.mee.2005.04.026

Файл:

PDF, 156 KB

english, 2005

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась