On the influence of substrate cleaning method and rapid thermal annealing conditions on the electrical characteristics of Al/SiNx/SiO2/Si fabricated by ECR-CVD
S. Dueñas, H.Castán, H. García, J. Barbolla, E. San Andrés, I. Mártil, G. González-DíazТом:
45
Рік:
2005
Мова:
english
Сторінки:
4
DOI:
10.1016/j.microrel.2004.11.012
Файл:
PDF, 299 KB
english, 2005