Electrical characterization of HfO2 films obtained by UV assisted injection MOCVD
J.M. Decams, H. Guillon, C. Jiménez, M. Audier, J.P. Sénateur, C. Dubourdieu, O. Cadix, B.J. O’Sullivan, M. Modreanu, P.K. Hurley, S. Rusworth, T.J. Leedham, H. Davies, Q. Fang, I. BoydТом:
45
Рік:
2005
Мова:
english
Сторінки:
4
DOI:
10.1016/j.microrel.2004.11.023
Файл:
PDF, 130 KB
english, 2005