SiCl4/Cl2 plasmas: A new chemistry to etch high-k materials selectively to Si-based materials
P. Bodart, G. Cunge, O. Joubert, T. LillРік:
2012
Мова:
english
DOI:
10.1116/1.3679551
Файл:
PDF, 1.02 MB
english, 2012