Electromigration critical length effect in Cu/oxide dual-damascene interconnects
Lee, Ki-Don, Ogawa, Ennis T., Matsuhashi, Hideki, Justison, Patrick R., Ko, Kil-Soo, Ho, Paul S., Blaschke, Volker A.Том:
79
Рік:
2001
Мова:
english
Журнал:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.1418034
Файл:
PDF, 493 KB
english, 2001
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
