Use of successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for amorphous titanium dioxide thin films growth
S.S. Kale, R.S. Mane, Hoeil Chung, Moon-Young Yoon, C.D. Lokhande, Sung-Hwan HanТом:
253
Рік:
2006
Мова:
english
Сторінки:
4
DOI:
10.1016/j.apsusc.2005.12.082
Файл:
PDF, 467 KB
english, 2006