Roughening of porous SiCOH materials in fluorocarbon plasmas
Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, M., Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O., Cardinaud, C.Том:
108
Рік:
2010
Мова:
english
Журнал:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.3446820
Файл:
PDF, 2.02 MB
english, 2010
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
