Tin Doping of Silicon for Controlling Oxygen Precipitation and Radiation Hardness
Claeys, C., Simoen, E., Neimash, V. B., Kraitchinskii, A., Kras’ko, M., Puzenko, O., Blondeel, A., Clauws, P.Том:
148
Рік:
2001
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1417558
Файл:
PDF, 206 KB
english, 2001
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
