Feature-scale model of Si etching in SF[sub 6] plasma and...

Feature-scale model of Si etching in SF[sub 6] plasma and comparison with experiments

Belen, Rodolfo Jun, Gomez, Sergi, Kiehlbauch, Mark, Cooperberg, David, Aydil, Eray S.

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

2005

Мова:

english

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

DOI:

10.1116/1.1830495

Файл:

PDF, 756 KB

english, 2005

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась