Effects of post-metallization annealing of high-K dielectric thin films grown by MOMBE
Minseong Yun, Myoung-Seok Kim, Young-Don Ko, Tae-Hyoung Moon, Jang-Hyuk Hong, Jae-Min Myoung, Ilgu YunТом:
77
Рік:
2005
Мова:
english
Сторінки:
7
DOI:
10.1016/j.mee.2004.08.009
Файл:
PDF, 531 KB
english, 2005
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
