Characterisation of the Al2O3 films deposited by ultrasonic spray pyrolysis and atomic layer deposition methods for passivation of 4H–SiC devices
Maciej Wolborski, Mietek Bakowski, Armando Ortiz, Viljami Pore, Adolf Schöner, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Anders HallénТом:
46
Рік:
2006
Мова:
english
Сторінки:
13
DOI:
10.1016/j.microrel.2005.08.002
Файл:
PDF, 570 KB
english, 2006