Characterization of RF Sputter-Deposited Ti-W Schottky Barrier Diodes in Boron-Doped Silicon
Paz, O.Том:
131
Рік:
1984
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.2115944
Файл:
PDF, 465 KB
english, 1984