Mechanisms of Oxygen Precipitation in Cz-Si Wafers Subjected to Rapid Thermal Anneals
Sarikov, Andrey, Litovchenko, Vladimir, Lisovskyy, Igor, Voitovich, Maria, Zlobin, Sergei, Kladko, Vasyl, Slobodyan, Nikolay, Machulin, Vladimir, Claeys, CorТом:
158
Рік:
2011
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.3594724
Файл:
PDF, 437 KB
english, 2011
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
