Ultrafast deposition of microcrystalline silicon films using high-density microwave plasma
Haijun Jia, Hiroshi Kuraseko, Hiroyuki Fujiwara, Michio KondoТом:
93
Рік:
2009
Мова:
english
Сторінки:
4
DOI:
10.1016/j.solmat.2008.09.046
Файл:
PDF, 405 KB
english, 2009