Comprehensive study of S/D engineering for 32 nm...

Comprehensive study of S/D engineering for 32 nm node CMOS in direct silicon bonded (DSB) technology

N. Yasutake, A. Nomachi, H. Itokawa, T. Morooka, L. Zhang, T. Fukushima, H. Harakawa, I. Mizushima, A. Azuma, Y. Toyosihma

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

2009

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/j.sse.2009.03.016

Файл:

PDF, 1.58 MB

english, 2009

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась