Alkoxysilane layers deposited by SC CO2 process on silicon...

Alkoxysilane layers deposited by SC CO2 process on silicon oxide for microelectronics applications

D. Rébiscoul, V. Perrut, O. Renault, F. Rieutord, S. Olivier, P.-H. Haumesser

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

2009

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/j.supflu.2009.08.008

Файл:

PDF, 1.38 MB

english, 2009

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась