Comparative investigation of Ti–Si–N films magnetron sputtered using Ti5Si3+Ti and Ti5Si3+TiN targets
D.V Shtansky, I.V Lyasotsky, N.B D'yakonova, F.V Kiryukhantsev-Korneev, S.A Kulinich, E.A Levashov, J.J MooreТом:
182
Рік:
2004
Мова:
english
Сторінки:
11
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2003.08.052
Файл:
PDF, 1.65 MB
english, 2004
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
