Effects of rf power on the structural properties of carbon nitride thin films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
Maisara Othman, Richard Ritikos, Noor Hamizah Khanis, Nur Maisarah Abdul Rashid, Saadah Abdul Rahman, Siti Meriam Ab Gani, Muhamad Rasat MuhamadТом:
519
Рік:
2011
Мова:
english
Сторінки:
6
DOI:
10.1016/j.tsf.2011.01.065
Файл:
PDF, 952 KB
english, 2011
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
