Influence of thermal oxidation on the interfacial...

Thin Solid Films 2011 Vol. 519; Iss. 16

Influence of thermal oxidation on the interfacial properties of ultrathin strained silicon layers

V. Ioannou-Sougleridis, N. Kelaidis, D. Skarlatos, C. Tsamis, S.N. Georga, C.A. Krontiras, Ph. Komninou, Th. Speliotis, P. Dimitrakis, B. Kellerman, M. Seacrist
Наскільки Вам сподобалась ця книга?
Яка якість завантаженого файлу?
Скачайте книгу, щоб оцінити її якість
Яка якість скачаних файлів?
Том:
519
Рік:
2011
Мова:
english
Сторінки:
8
DOI:
10.1016/j.tsf.2011.02.085
Файл:
PDF, 1.59 MB
english, 2011
Виконується конвертація в
Конвертація в не вдалась