Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Chemical Reactions in Plasma-Assisted Chemical Vapor...

Chemical Reactions in Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Titanium

Ohshita, Yoshio
Наскільки Вам сподобалась ця книга?
Яка якість завантаженого файлу?
Скачайте книгу, щоб оцінити її якість
Яка якість скачаних файлів?
Том:
145
Рік:
1998
Мова:
english
Журнал:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1838679
Файл:
PDF, 782 KB
english, 1998
Виконується конвертація в
Конвертація в не вдалась