[ECS 213th ECS Meeting - Phoenix, AZ (May 18 - May 23, 2008)] ECS Transactions - High Growth Rate SiO2 by Atomic Layer Deposition
Matero, Raija, Haukka, Suvi, Tuominen, MarkoТом:
13
Рік:
2008
Мова:
english
DOI:
10.1149/1.2911529
Файл:
PDF, 197 KB
english, 2008