Remote plasma nitridation, deuterium anneal and pocket implant effects on NMOS hot carrier reliability
Shian Aur, Tad Grider, Vincent McNeil, Tom Holloway, Robert EklundТом:
39
Рік:
1999
Мова:
english
Сторінки:
7
DOI:
10.1016/s0026-2714(99)00033-5
Файл:
PDF, 147 KB
english, 1999
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
