Effects of low-molecular-weight radicals for reduction of microloading in high-aspect contact-hole etching
Seiji Samukawa, Tomonori MukaiТом:
374
Рік:
2000
Мова:
english
Сторінки:
8
DOI:
10.1016/s0040-6090(00)01155-x
Файл:
PDF, 1.10 MB
english, 2000