Density functional study on the adsorption and surface reactions on SiO2 in TiN-CVD using TiCl4 and NH3
Tatsuo Tanaka, Tohru Nakajima, Koichi YamashitaТом:
409
Рік:
2002
Мова:
english
Сторінки:
7
DOI:
10.1016/s0040-6090(02)00103-7
Файл:
PDF, 1.36 MB
english, 2002
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
