The influence of carbon content in carbon-doped silicon oxide film by thermal treatment
Chang Sil Yang, Young-Hun Yu, Kwang-Man Lee, Heon-Ju Lee, Chi Kyu ChoiТом:
435
Рік:
2003
Мова:
english
Сторінки:
5
DOI:
10.1016/s0040-6090(03)00356-0
Файл:
PDF, 512 KB
english, 2003