Dependence of the properties of (SrxTi1−x)O3 thin films deposited by plasma-enhanced metal–organic chemical vapor deposition on electron cyclotron resonance plasma
Joon Sung Lee, Han Wook Song, Byung-Hyuk Jun, Dong Hwa Kwack, Byoung Gon Yu, Zhong-Tao Jiang, Kwangsoo NoТом:
301
Рік:
1997
Мова:
english
Сторінки:
8
DOI:
10.1016/s0040-6090(97)00002-3
Файл:
PDF, 502 KB
english, 1997
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
