Nano-scale compositional lamination of doped silica glass deposited in surface discharge plasma of SPCVD technology
A.V. Kholodkov, K.M. Golant, I.V. NikolinТом:
69
Рік:
2003
Мова:
english
Сторінки:
8
DOI:
10.1016/s0167-9317(03)00323-x
Файл:
PDF, 537 KB
english, 2003
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
