X-ray photoelectron spectroscopy of polycrystalline AlN surface exposed to the reactive environment of XeF2
Morimichi Watanabe, Yukimasa Mori, Takahiro Ishikawa, Takashi Iida, Keijiro Akiyama, Kyoichi Sawabe, Kosuke ShobatakeТом:
217
Рік:
2003
Мова:
english
Сторінки:
6
DOI:
10.1016/s0169-4332(03)00577-4
Файл:
PDF, 212 KB
english, 2003