X-Ray photoelectron spectroscopy study of CdTe oxide films grown by rf sputtering with an Ar–NH3 plasma
P. Bartolo-Pérez, R. Castro-Rodrı́guez, F. Caballero-Briones, W. Cauich, J.L. Peña, M.H. FariasТом:
155
Рік:
2002
Мова:
english
Сторінки:
5
DOI:
10.1016/s0257-8972(02)00028-2
Файл:
PDF, 148 KB
english, 2002