Process-induced defects in nitrogen doped Czochralski...

Process-induced defects in nitrogen doped Czochralski silicon in diode processes

J. Lu, D. Yang, J. Yang, D. Tian, Y. Shen, X. Ma, L. Li, D. Que

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

308-310

Рік:

2001

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/s0921-4526(01)00931-0

Файл:

PDF, 169 KB

english, 2001

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась