Barrier behavior hindering Zn++ diffusion from cold remote nitrogen plasma-deposited silicon films
C. Jama, K. Asfardjani, O. Dessaux, P. GoudmandТом:
64
Рік:
1997
Мова:
english
Сторінки:
7
DOI:
10.1002/(sici)1097-4628(19970425)64:43.0.co;2-i
Файл:
PDF, 162 KB
english, 1997