[IEEE 2017 IEEE International Memory Workshop (IMW) - Monterey, CA, USA (2017.5.14-2017.5.17)] 2017 IEEE International Memory Workshop (IMW) - 40nm Embedded Self-Aligned Split-Gate Flash Technology for High-Density Automotive Microcontrollers
Shum, Danny, Luo, Lai Q., Kong, Y.J., Deng, F.X., Qu, X., Teo, Z.Q., Liu, J.Q., Zhang, F., Cai, X.S., Tan, K.M., Lim, K.Y., Khoo, P., Yeo, P.Y., Nguyen, B.Y., Jung, S.M., Siah, S.Y., Pey, K.L., ShubhaРік:
2017
Мова:
english
DOI:
10.1109/IMW.2017.7939068
Файл:
PDF, 2.80 MB
english, 2017
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
