Dielectric barrier layers by low-temperature...

Thin Solid Films 2018 / 03 Vol. 649

Dielectric barrier layers by low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon dioxide

Barako, Michael T., English, Timothy S., Roy-Panzer, Shilpi, Kenny, Thomas W., Goodson, Kenneth E.

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

649

Мова:

english

Журнал:

Thin Solid Films

DOI:

10.1016/j.tsf.2018.01.019

Date:

March, 2018

Файл:

PDF, 549 KB

english, 2018

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась